NANOCLEEN 将闪亮 PRODUCTRONICA 2009
Teknek – 电子行业中全球领先的接触式清洁设备生产商 – 将在2009年11月10-13号德国举办的Productronica 展示世界上最先进的接触式清洁系统。针对生产环境中清除污染和静电控制，5年研发Nanocleen具有无与伦比的好处。在25年前Teknek率先发展了接触式清洁设备，至今依然是站在此行业创新的前沿。目前，Teknek已经在全球安装超过1万6千多台清洁机，客户使用此技术提高良品率，保守估计创造价值超过20亿美金。
Nanocleen系统的核心是一个特殊配方的清洁滚轮和胶纸卷。与传统的接触式清洁系统相比Nanocleen拥有多个优点，包括：清洁滚轮可去除更小的污染颗粒 – 到25纳米大小；与其它品牌清洁滚轮相比，可以多清除25-50％的污染颗粒；清洁滚轮在清除污染颗粒的同时，自身散除静电；Nanocleen清洁滚轮和粘尘纸卷是100％无硅胶。传统的清洁滚轮和胶纸含有硅胶成分，可以潜在地污染生产线。
Nanocleen系统可以安装在新老版本的Teknek清洁机，也可以升级其它品牌的接触式清洁机，节约不必要的整机投资。
Teknek总经理斯蒂芬 米切尔说：“Nanocleen的发展已经投入大量的研究和开发资源并在现有客户中做了广泛的测试。”他补充：“Nanocleen为电子行业中的接触式清洁技术设立了新的标准。当今的全球市场没有比Nanocleen更高效的污染清除和减少静电的方法。在提高产品良品率和减少浪费方面，Nanocleen帮助用户形成明显的竞争优势。”
